• A
  • A
  • A
  • АБВ
  • АБВ
  • АБВ
  • A
  • A
  • A
  • A
  • A
Обычная версия сайта
  • RU
  • EN
  • Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
  • Публикации ВШЭ
  • Глава
  • Automatized setup for researching of MIS structures under high-field tunnel injection of electrons at stress and measurement conditions
  • RU
  • EN
Расширенный поиск
Высшая школа экономики
Национальный исследовательский университет
Приоритетные направления
  • бизнес-информатика
  • государственное и муниципальное управление
  • гуманитарные науки
  • инженерные науки
  • компьютерно-математическое
  • математика
  • менеджмент
  • право
  • социология
  • экономика
по году
  • 2027
  • 2026
  • 2025
  • 2024
  • 2023
  • 2022
  • 2021
  • 2020
  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2013
  • 2012
  • 2011
  • 2010
  • 2009
  • 2008
  • 2007
  • 2006
  • 2005
  • 2004
  • 2003
  • 2002
  • 2001
  • 2000
  • 1999
  • 1998
  • 1997
  • 1996
  • 1995
  • 1994
  • 1993
  • 1992
  • 1991
  • 1990
  • 1989
  • 1988
  • 1987
  • 1986
  • 1985
  • 1984
  • 1983
  • 1982
  • 1981
  • 1980
  • 1979
  • 1978
  • 1977
  • 1976
  • 1975
  • 1974
  • 1973
  • 1972
  • 1971
  • 1970
  • 1969
  • 1968
  • 1967
  • 1966
  • 1965
  • 1964
  • 1963
  • 1958
  • еще
Тематика
Новости
26 мая 2026 г.
Гибкость рынка труда как новая норма: ее формы и адаптация работников
Гибкий рынок труда, который наблюдается сегодня, — не временная тактика или вынужденная мера, а системный ответ на ряд вызовов. Как меняется карьера, какие формы гибкости встречаются и как работникам адаптироваться к ним, в колонке для IQ Медиа размышляет директор Института занятости и профессий НИУ ВШЭ Федор Прокопов.
25 мая 2026 г.
Биологи ВШЭ получили «молекулярный отпечаток» преэклампсии
Исследователи НИУ ВШЭ использовали новый способ моделирования состояния гипоксии в клетках плаценты при беременности, осложненной преэклампсией, и обнаружили молекулярные маркеры кислородного голодания тканей. Гипоксия — один из ключевых механизмов преэклампсии, полученные результаты важны для более точной и своевременной диагностики заболевания, а также для разработки эффективных методов лечения. Работа опубликована в журнале Placenta.
22 мая 2026 г.
Лаборатория живых смыслов: как проект НИУ ВШЭ и СахГУ переосмысляет труд
Проект «Зеркальные лаборатории» НИУ ВШЭ — Пермь и Сахалинского государственного университета (СахГУ) изучает, как культура, среда и технологии формируют и меняют трудовые смыслы. Исследование объединяет индивидуальный опыт, профессиональные нормы, городские проблемы, творческие практики и цифровые условия труда. Руководитель Лаборатории междисциплинарных исследований по антропологии труда НИУ ВШЭ в Перми Лилия Пантелеева рассказала о работе проекта.

 

Нашли опечатку?
Выделите её, нажмите Ctrl+Enter и отправьте нам уведомление. Спасибо за участие!

Публикации
  • Книги
  • Статьи
  • Главы в книгах
  • Препринты
  • Верификация публикаций
  • Расширенный поиск
  • Правила использования материалов
  • Наука в ВШЭ

?

Automatized setup for researching of MIS structures under high-field tunnel injection of electrons at stress and measurement conditions

Ch. 8337209. P. 1–3.
Andreev D. V., Bondarenko G.G., Andreev V. V., Stolyarov A. A.
Язык: английский
Полный текст
DOI
Ключевые слова: МДП-структуразарядовое состояниеcharge stateинжекция электроновMIS-structureinjection of electrons

В книге

2018 Moscow Workshop on Electronic and Networking Technologies (MWENT). Proceedings
2018 Moscow Workshop on Electronic and Networking Technologies (MWENT). Proceedings
M.: IEEE, 2018.
Похожие публикации
Using Injection-Thermal Treatment to Reduce Defectiveness of Dielectric Films of MIS Structures
Andreev D. V., Kornev S. A., G. G. Bondarenko и др., Inorganic Materials: Applied Research 2025 Vol. 16 No. 5 P. 1301–1305
Добавлено: 12 сентября 2025 г.
Повышение зарядовой стабильности пленок подзатворного диэлектрика МДП-структур методом их легирования фосфором
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Андреев В. В. и др., Перспективные материалы 2020 № 7 С. 68–74
Добавлено: 25 июня 2020 г.
Influence of Temperature on High-Field Injection Modification of MIS Structures with Thermal SiO2 Films Doped with Phosphorus
Andreev D., Gennady G. Bondarenko, Andreev V. и др., High Temperature Material Processes 2019 Vol. 23 No. 4 P. 303–312
Добавлено: 30 января 2020 г.
Simulation of charge processes in dielectric films of MIS structures at simultaneous influence by ionization and high-field injection of electrons
Andreev D. V., Bondarenko G.G., Andreev V. V. и др., Procedia Manufacturing 2019 Vol. 37 P. 279–285
Добавлено: 10 января 2020 г.
Modification of MIS structures with thermal SiO2 films by phosphorus diffusion
Andreev D. V., Bondarenko G.G., Andreev V. V. и др., High Temperature Material Processes 2017 Vol. 21 No. 4 P. 299–307
Добавлено: 24 июня 2018 г.
Modification of MIS Devices by Irradiation and High-Field Electron Injection Treatments
Andreev D. V., Бондаренко Г. Г., Andreev V. V. и др., Acta Physica Polonica A 2017 Vol. 132 No. 2 P. 245–248
Добавлено: 9 октября 2017 г.
СЕНСОРЫ РАДИАЦИОННЫХ ИЗЛУЧЕНИЙ НА ОСНОВЕ МДП-СТРУКТУР С МОДИФИЦИРОВАННЫМИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИМИ ПЛЕНКАМИ
Андреев В. В., Бондаренко Г. Г., Андреев Д. В. и др., В кн.: Труды XXVII Международной конференции "Радиационная физика твердого тела" (Севастополь,10-15 июля 2017 г.), под редакцией д.ф.-м.н., проф.Бондаренко Г.Г. М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2017, 522 с.: М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2017. С. 412–419.
В данной работе разработан сенсор на основе МДП-структуры с инжекционно-модифицированным подзатворным диэлектриком для контроля интенсивности радиационного излучения и определения интегральной поглощенной дозы. Проведено исследование воздействия альфа-частиц и гамма-излучения на МДП-структуры, находящиеся в специальных электрических режимах. ...
Добавлено: 22 августа 2017 г.
Modification of MIS Structures with Thermal SiO2 Films by Phosphorus Diffusion
Andreev D. V., Бондаренко Г. Г., Andreev V. V. и др., , in: Proceedings of 10th International Conference “New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation” (Zakopane, Poland, June 27 – 30, 2017).: Lublin: lublin University of Technology, 2017. P. 59.
Добавлено: 5 июля 2017 г.
Зарядовые явления в МДП-структурах при радиационных облучениях и сильнополевой инжекции электронов
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Андреев В. В. и др., В кн.: Тезисы докладов XLVII Международной Тулиновской конференции по физике взаимодействия заряженных частиц с кристаллами (Москва, МГУ, 30 мая – 1 июня 2017). М. МГУ, 2017.: КДУ, 2017. С. 65.
В работе проведено исследование изменения зарядового состояния МДП-структур, находящихся в режиме сильнополевой туннельной инжекции электронов в диэлектрик, при радиационных воздействиях. ...
Добавлено: 14 июня 2017 г.
Радиационная ионизация в подзатворном диэлектрике МДП-структур в сильных электрических полях
Андреев В. В., Бондаренко Г. Г., Тихонов А. Н. и др., В кн.: Труды XXVI Международной конференции "Радиационная физика твердого тела" (Севастополь, 4-9 июля 2016г.).: М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2016. С. 490–497.
В  работе проведено исследование воздействия альфа-частиц на МДП-структуры, находящиеся в режиме протекания через диэлектрик постоянного туннельного тока, обусловленного сильнополевой по Фаулеру-Нордгейму инжекцией электронов в диэлектрик, а также в режиме заряда и разряда емкости постоянным током. ...
Добавлено: 30 августа 2016 г.
Модификация МДП-структур в процессе электронного облучения и инжекции электронов в сильных электрических полях
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Столяров А. А., Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования 2016 № 4 С. 94–99
Исследовано изменение зарядового состояния МДП-структур с двухслойным подзатворным диэлектриком диоксид кремния–фосфорно-силикатное стекло при их модификации в процессе электронного облучения и инжекции электронов в сильных электрических полях. Тонкая пленка стекла образовывалась в результате легирования фосфором термической пленки SiO2, сформированной на поверхности кремниевой пластины. Установлено, что отрицательный заряд, накаплива ющийся в тонкой пленке фосфорно-силикатного стекла в процессе туннельной ...
Добавлено: 1 августа 2016 г.
Зарядовые характеристики МДП-структур с термическими плёнками SiO2, легированными фосфором, при сильнополевой инжекции электронов
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Столяров А. А., Перспективные материалы 2015 № 11 С. 19–25
Проведено исследование процессов изменения зарядового состояния МДП-структур с многослойным подзатворным диэлектриком на основе термической пленки SiO2, легированной фосфором, при воздействии сильнополевой инжекцией электронов. Установлено, что отрицательный заряд, накапливающийся в тонкой плёнке фосфорно-силикатного стекла (ФСС) в МДП-структурах с двухслойным подзатворным диэлектриком SiO2-ФСС в процессе сильнополевой туннельной инжекции электронов,  может использоваться для корректировки пороговых напряжений, повышения зарядовой ...
Добавлено: 19 ноября 2015 г.
Сильнополевая и плазменная модификация структур метал-диэлектрик-полупроводник
Андреев В. В., Бондаренко Г. Г., Масловский В. М. и др., В кн.: Труды XXV Международной конференции "Радиационная физика твердого тела" (Севастополь, 6-11 июля 2015г.).: М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2015. С. 633–642.
В работе проведено исследование процессов изменения зарядового состояния МДП-структур в результате сильнополевой инжекционной обработки и последующего отжига, а также плазменной обработки полупроводниковых кристаллов. Найдены режимы обработок, позволяющие улучшить характеристики подзатворного диэлектрика МДП-структур. ...
Добавлено: 17 июля 2015 г.
Модификация МДП-структур сильнополевой инжекцией электронов и электронным облучением
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Столяров А. А., В кн.: Труды XXV Международной конференции "Радиационная физика твердого тела" (Севастополь, 6-11 июля 2015г.).: М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2015. С. 242–252.
В  работе рассмотрена возможность модификации МДП-структур c пленкой SiO2, легированной фосфором путём сильнополевой туннельной инжекции электронов в подзатворный диэлектрик и облучения кристаллов низкоэнергетичными электронами, а также проведено исследование режимов легирования пленки SiO2 фосфором на характеристики МДП-структур.Установлено, что отрицательный заряд, накапливающийся в плёнке ФСС в структурах с двухслойным подзатворным диэлектриком SiO2-ФСС как в процессе сильнополевой туннельной ...
Добавлено: 16 июля 2015 г.
Control current stress technique for the investigation of gate dielectrics of MIS devices
Andreev V. V., Bondarenko G.G., Maslovsky V. M. и др., Physica status solidi C 2015 Vol. 12 No. 3 P. 299–303
In this study, a modified technique of control current stress to investigation thin gate dielectric of MIS structures is proposed. This technique allows to monitor charge trapping in gate dielectric of MIS structures under high-field and another stress situations (irradiation, plasma, hot carriers, etc.). The technique also may be used for testing thin gate dielectric ...
Добавлено: 19 апреля 2015 г.
Modification of dielectric films in MIS structures using the injection-thermal treatment
Andreev V. V., Бондаренко Г. Г., Stolyarov A. A. и др., Inorganic Materials: Applied Research 2015 Vol. 6 No. 2 P. 128–132
Добавлено: 9 апреля 2015 г.
Управление туннельным током через неоднородные гетеробарьеры со сферическими симметричными включениями
Козлов В. А., Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования 2012 № 9 С. 22–26
Исследовалось влияние квантовых объектов сферической формы (рассеивателей), встроенных в полупроводниковые барьеры, на протекание через них туннельного тока. Для этого решалась задача рассеяния затухающих (при энергии, меньшей потенциала барьера) падающей и отраженной волновых функций электрона на ступенчатом, сферически симметричном потенциале рассеивателя. ...
Добавлено: 24 февраля 2015 г.
Метод многоуровневой токовой нагрузки для исследования процессов радиационной деградации и модификации МДП-структур
Андреев В. В., Бондаренко Г. Г., Столяров А. А. и др., В кн.: Труды XXIV Международной конференции "Радиационная физика твердого тела" (Севастополь, 7 июля - 12 июля 2014г.).: М.: ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2014. С. 381–386.
В данной работе для исследования процессов радиационной деградации и модификации тонких и сверхтонких диэлектрических пленок МДП-структур предложен новый метод многоуровневой токовой нагрузки. Этот метод позволяет исследовать процессы деградации и модификации МДП-структур при воздействии радиационных облучений, сильных электрических полей, плазменных обработок, инжекции горячих носителей и других стрессовых воздействий. Метод также дает возможность контролировать дефектность тонких пленок ...
Добавлено: 23 января 2015 г.
  • О ВЫШКЕ
  • Цифры и факты
  • Руководство и структура
  • Устойчивое развитие в НИУ ВШЭ
  • Преподаватели и сотрудники
  • Корпуса и общежития
  • Закупки
  • Обращения граждан в НИУ ВШЭ
  • Фонд целевого капитала
  • Противодействие коррупции
  • Сведения о доходах, расходах, об имуществе и обязательствах имущественного характера
  • Сведения об образовательной организации
  • Людям с ограниченными возможностями здоровья
  • Единая платежная страница
  • Работа в Вышке
  • ОБРАЗОВАНИЕ
  • Лицей
  • Довузовская подготовка
  • Олимпиады
  • Прием в бакалавриат
  • Вышка+
  • Прием в магистратуру
  • Аспирантура
  • Дополнительное образование
  • Центр развития карьеры
  • Бизнес-инкубатор ВШЭ
  • Образовательные партнерства
  • Обратная связь и взаимодействие с получателями услуг
  • НАУКА
  • Научные подразделения
  • Исследовательские проекты
  • Мониторинги
  • Диссертационные советы
  • Защиты диссертаций
  • Академическое развитие
  • Конкурсы и гранты
  • Внешние научно-информационные ресурсы
  • РЕСУРСЫ
  • Библиотека
  • Издательский дом ВШЭ
  • Книжный магазин «БукВышка»
  • Типография
  • Медиацентр
  • Журналы ВШЭ
  • Публикации
  • http://www.minobrnauki.gov.ru/
    Министерство науки и высшего образования РФ
  • https://edu.gov.ru/
    Министерство просвещения РФ
  • http://www.edu.ru
    Федеральный портал «Российское образование»
  • https://elearning.hse.ru/mooc
    Массовые открытые онлайн-курсы
  • НИУ ВШЭ1993–2026
  • Адреса и контакты
  • Условия использования материалов
  • Политика конфиденциальности
  • Правила применения рекомендательных технологий в НИУ ВШЭ
  • Карта сайта
Редактору