• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Глава

Формирование изображения в вакуумном ультрафиолете

С. 303-305.
Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., Лучников П. А.

В работе анализируются тенденции развития литографической технологии производства изделий микроэлектроники, и предлагаются принципиально новая схема технологического оборудования, работающая в экстремальном ультрафиолетовом и мягком рентгеновском диапазонах, и позволяющая уменьшить минимальный характеристический размер элементов интегральных схем до нанометрового диапазона от нескольких десятков до единиц нанометров.