• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Статья

Повышение инжекционной и радиационной стойкости наноразмерных диэлектрических пленок МДП-приборов

Андреев В. В., Бондаренко Г. Г., Михальков А. М., Столяров А. А., Соловьев И. В.
Исследованы режимы инжекционно-термической обработки структур металл-диэлектрик-полупроводник (МДП). Показано, что инжекционно-термическая обработка (ИТО) позволяет выявить и исключить структуры с грубыми дефектами изоляции и зарядовыми дефектами, при этом практически не снижается ресурс работы приборов на основе МДП-структур. Установлено, что проведение ИТО позволяет повысить инжекционную и радиационную стойкость наноразмерных диэлектрических пленок МДП-приборов за счет их модификации.