Алгоритм выбора технологического решения в ультрафиолетовой литографии

Е. Н. Ивашов; М. Ю. Корпачев; П. С. Костомаров

?

Алгоритм выбора технологического решения в ультрафиолетовой литографии

С. 82–87.

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С.

В настоящей работе предлагается метод выбора технологического решения для ультрафиолетового литографического оборудования из ряда недоминируемых альтернатив, также предложен алгоритм выбора недоминируемго решения при разработке технологического процесса в ультрафиолетовой литографической технологии и алгоритм поиска технических решений литографических установок.

Язык: русский

Полный текст

Ключевые слова: ультрафиолетовая литография алгоритм выбора технического решения множество Парето критериальное множество

В книге

Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., Москва

Ч. 7: Проблемы надежности и качества. , М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012.

Многокритериальная задача принятия решения при проектировании УФ-литографического модульного оборудования

Васин В. А., Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю. и др., Автоматизация и современные технологии 2013 № 4 С. 19–24

В статье рассмотрена многокритериальная задача принятия решения при проектировании ультрафиолетового литографического оборудования, которая решается путём применения обобщенного критерия оценки качества, включающего технические, технологические, структурные, экономические и экологические локальные критерии с учётом их весовых коэффициентов. Показано, что предпочтительными критериями при сравнении вариантов конструктивных решений рассматриваемых технологии и оборудования являются надёжность и ожидаемый экономический эффект. Предложены методы ...

Добавлено: 22 октября 2013 г.

Задача снижения размерности для опто- и наноэлектроники в литографической технологии

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн.: Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции.: Ульяновск: УлГУ, 2012. С. 52–53.

Приведено решение задачи представления коллекции изображений на плоскости в ультрафиолетовой литографической технологии. Предложены методы снижения размерности объектов на основе линейных методов использующих дискретный вариант разложения Краунена – Лоэва. Предложены также нелинейные методы снижения размерности в ультрафиолетовой литографической технологии на основе отображения множества векторов многомерного пространства в пространство малой размерности. Рассмотрено применение коррекции оптического эффекта близости ...

Добавлено: 17 мая 2013 г.

Методы снижения характеристического размера при автоматизированном проектировании элементов СБИС

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., В кн.: Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012).: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 284–287.

Рассмотрены основные вопросы снижения размерности изображения топологии на фотошаблоне при отображении коллекции изображений в двухмерное пространство. Предложены методы снижения минимального характеристического размера элементов СБИС с использованием коррекции оптического эффекта близости. ...

Добавлено: 12 февраля 2013 г.

Пути снижения размерности изображения топологии в УФ – литографическом процессе производства СБИС

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. и др., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 3: Материалы и технологии.: М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 66–73.

Рассмотрены основные методы снижения минимального характеристического размера в литографической технологии, включающие в себя коррекцию оптического эффекта близости, метод искусственного фазового сдвига, иммерсирования, двойного экспонирования и паттернирования. Рассмотрены также методы отображения коллекции изображений в двухмерное пространство. ...

Добавлено: 5 февраля 2013 г.

Обработка информации о предпочтениях при поиске решений отражательных фотошаблонов для ультрафиолетовой литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., Оборонный комплекс - научно-техническому прогрессу России 2012 № 3 С. 77–85

Рассмотрены аналитические модели, позволяющие осуществить возможность исследования свойств и особенностей предпочтительных вариантов и помогающие выбрать направление опроса проектировщиков оборудования ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство с использованием эффекта обращения волнового фронта, обеспечивающее создание высоконаправленных пучков, которое позволяет повысить производительность нанесения нанодорожек на подложку. ...

Добавлено: 14 декабря 2012 г.