?
Получение оптических пленок металлов на установке "плазменный фокус"
В настоящее время существует много способов нанесения пленок различных материалов на диэлектрические и металлические поверхности [1-4], все они обладают определенными преимуществами и недостатками. Основными способами получения однородных тонких пленок являются способ термического распыления материала, магнетронного распыления и методы химического и электролитического осаждения. Однако после осаждения пленок, для улучшения их адгезии с подложкой часто приходится применять химическую и термическую обработку, что приводит к неконтролируемым изменениям их физических свойств. Таким образом, актуальным остается поиск альтернативных методов напыления пленок, не требующих дополнительных затрат на термо- и гальвано-химическую обработку.
В работе для напыления тонких металлических пленок на диэлектрические подложки (стекла) была использована установка Плазменный фокус (ПФ-4) ФИАН [5]. Ранее было показано, что высокоэнергетические пучки плазмы позволяют получать пленки меди на сапфире [6, 7]. При этом наблюдалось достаточно глубокое проникновение меди в подложку, что обеспечивало хорошую адгезию пленок. Однако напыленные пленки металлов имели сильно неоднородную структуру, а на поверхности подложек наблюдались значительные повреждения. При этом оптические характеристики подложки (сапфир) существенно ухудшались [8].
Целью данной работы являлась разработка методики напыления оптически тонких пленок металлов на диэлектрические подложки (стекла).
В книге
