• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Глава

Задача снижения размерности для опто- и наноэлектроники в литографической технологии

С. 52-53.
Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С.

Приведено решение задачи представления коллекции изображений на плоскости в ультрафиолетовой литографической технологии. Предложены методы снижения размерности объектов на основе линейных методов использующих дискретный вариант разложения Краунена – Лоэва. Предложены также нелинейные методы снижения размерности в ультрафиолетовой литографической технологии на основе отображения множества векторов многомерного пространства в пространство малой размерности. Рассмотрено применение коррекции оптического эффекта близости в процессе проектирования промежуточных шаблонов с размерами элементов меньше длины волны экспонирующего излучения для дополнительного снижения размерности в ультрафиолетовой литографической технологии.