Глава
Модель формирования нанорисунка на подложке с учетом двух внутренних степеней свободы
Рассмотрена модель формирования нанорисунка на подложке с учётом двух внутренних степеней свободы. Предложено устройство для формирования нанорисунка на подложке.
В книге
Исследовано влияние режимов лазерного удаления тонких пленок с поверхности стекла К8 на изменение его коэффициента пропускания. Удаление тонких пленок производилось при различных длинах импульсов лазерного излучения – 200 мкс, 100 нс и 12 нс.
Представлены результаты облучения керамики на основе оксида алюминия со структурой корунда (α-Аl2О3), приготовленной методом порошковой металлургии, импульсными потоками ионов и высокотемпературной плазмы с использованием установки Плазменный фокус (ПФ), а также лазерного излучения (ЛИ) режиме свободной генерации. Облучение в установке ПФ-5М проводилось в атмосфере азота и воздуха при плотности мощности излучения для потока плазмы q ≈ 107 Вт/см2 и длительности импульсов τp ≈100 нс, а для потока ионов в режиме q ≈ 108 Вт/см2, τi ≈ 20 нс. Воздействие импульсного ЛИ осуществлялось в воздушной среде при q ≈ (3 – 5)105 Вт/см2 и τ ≈ 0,7 мс. Исследованы особенности эрозии (потери массы) и повреждаемости поверхностного слоя керамики при указанных режимах облучения. Показано, что совместное использование ПФ и импульсного лазерного воздействия перспективно для имитации экстремальных процессов эрозии и повреждаемости материалов, происходящих в установках термоядерного синтеза (типа ELMs эффектов в реакторе Итер или в камерах с инерциальным удержанием плазмы), с целью изучения и прогнозирования их поведения в рассматриваемых условиях.
Экспериментально впервые определена температурная зависимость показателя преломления природного алмаза на длине волны 633 нм. Для измерения использован метод интерференции света в нагреваемой плоскопараллельной пластинке. Измерения проводились в температурном диапазоне 20 – 400°С. Обсуждаются перспективы применения полученных результатов в температурных измерениях.
В работе исследуется физико-техническая возможность преодоления 100 нм барьера, при формировании нанообъектов литографическим методом. Авторами работы предложено техническое решение обеспечивающее возможность высокопроизводительного формирования дорожек нанометрового диапазона с применением ультрафиолетовой литографии.
В трудах школы рассмотрены физические основы концентрированных потоков энергии и их воздействия на материалы и изделия космической техники, методы обработки материалов концентрированным излучением, воздействие лазерного и микроволнового излучения на вещество, концентрированные потоки энергии в экологии и медицине, в электронике, проблемы физики нейтрино и ядерной спектроскопии.