Модель морфологической коррекции в литографической технологии

Е. Н. Ивашов; П. С. Костомаров

?

Модель морфологической коррекции в литографической технологии

С. 163–166.

Ивашов Е. Н., Костомаров П. С.

Рассмотрено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции как задачу поиска экстремума функционала штрафа. Представлено практическое применение фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии (ИУФЛ).

Модель литографического процесса, однажды полученная на основании этих данных, позволяет проводить точную коррекцию любых дополнительных более сложных геометрий.

Язык: русский

Полный текст

Ключевые слова: иммерсионная ультрафиолетовая литография задачи морфологической фильтрации фильтрация и сегментация оптический эффект близости литографическое моделирование

В книге

Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., Москва

Ч. 1. , М.: МГТУ МИРЭА, 2012.

Алгоритм выбора технологического решения для иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Костомаров П. С., В кн.: Научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов МИЭМ НИУ ВШЭ. Тезисы докладов.: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013. С. 253–254.

В работе рассмотрены аспекты практического применения метода иммерсионной литографии при выборе технологического решения установки, удовлетворяющей производственным требованиям: проектные нормы, диаметры полупроводниковой пластины, скорость обработки. ...

Добавлено: 21 сентября 2013 г.

Задача морфологической коррекции в литографической технологии для опто- и наноэлектроники

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн.: Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции.: Ульяновск: УлГУ, 2012. С. 54–55.

В работе приведено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции, как задача поиска экстремума функционала штрафа в литографической технологии для опто- и наноэлектроники. Рассмотрено также применение методов математической фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии. ...

Добавлено: 17 мая 2013 г.

Информационная технология моделирования процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., В кн.: Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012).: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 394–400.

Рассмотрена IDEF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Показана стратегия диагностики и технического обслуживания, которая позволяет получить от эксплуатируемого оборудования максимальный эффект. Предложено техническое решение устройства формирования изображения на подложке. ...

Добавлено: 12 февраля 2013 г.

Обобщенный критерий оценки качества оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 7: Проблемы надежности и качества.: М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 88–92.

В работе рассматриваются основные дефекты технологического процесса иммерсионной ультрафиолетовой литографии, предлагается упорядоченная система критериев оценки качества и интегральный обобщенный критерий качества, используемые при автоматизированном проектировании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии и позволяющие выполнить научно обоснованный, технически целесообразный, технологически и экономически выгодный выбор параметров нового технического решения. ...

Добавлено: 5 февраля 2013 г.

Функциональное моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., МГОУ-XXI - Новые технологии 2012 № 2 С. 9–16

Рассмотрена IDF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом ультрафиолетовой иммерсионной литографии, являющаяся структурированным изображением производственной системы или среды. ...

Добавлено: 24 января 2013 г.

Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., Нелинейный мир 2012 Т. 10 № 7 С. 454–459

Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов. Реализация «обхода» проблем малых выборок обеспечивает увеличение объема исходных данных и повышает эффективность технического моделирования. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек диапазона порядка 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...

Добавлено: 16 ноября 2012 г.

Критерий качества в автоматизированном проектировании устройств оборудования иммерсионной литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., Оборонный комплекс - научно-техническому прогрессу России 2012 № 3 С. 69–77

Рассмотрен подход, позволяющий осуществлять выбор параметров нового технического решения, принимаемого за основу при создании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек нанометрового диапазона с проектными нормами не более 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...

Добавлено: 16 ноября 2012 г.