Модель морфологической коррекции в литографической технологии

Ивашов Евгений Николаевич; Костомаров Павел Сергеевич

Глава

Модель морфологической коррекции в литографической технологии

С. 163-166.

Ивашов Е. Н., Костомаров П. С.

Рассмотрено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции как задачу поиска экстремума функционала штрафа. Представлено практическое применение фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии (ИУФЛ).

Модель литографического процесса, однажды полученная на основании этих данных, позволяет проводить точную коррекцию любых дополнительных более сложных геометрий.

Язык: русский

Полный текст (PDF, 1.53 Мб)

Ключевые слова: задачи морфологической фильтрации фильтрация и сегментация иммерсионная ультрафиолетовая литография оптический эффект близости литографическое моделирование

В книге

Модель морфологической коррекции в литографической технологии

Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., Москва

Под редакцией: А. С. Сигов Ч. 1. М.: МГТУ МИРЭА, 2012.

Обобщенный критерий оценки качества оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др. В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., Москва. Ч. 7: Проблемы надежности и качества. М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 88-92.

В работе рассматриваются основные дефекты технологического процесса иммерсионной ультрафиолетовой литографии, предлагается упорядоченная система критериев оценки качества и интегральный обобщенный критерий качества, используемые при автоматизированном проектировании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии и позволяющие выполнить научно обоснованный, технически целесообразный, технологически и экономически выгодный выбор параметров нового технического решения.

Добавлено: 5 февраля 2013

Информационная технология моделирования процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Ивашов Е. Н., Костомаров П. С. В кн.: . С. 394-400.

Рассмотрена IDEF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Показана стратегия диагностики и технического обслуживания, которая позволяет получить от эксплуатируемого оборудования максимальный эффект. Предложено техническое решение устройства формирования изображения на подложке.

Добавлено: 12 февраля 2013

Критерий качества в автоматизированном проектировании устройств оборудования иммерсионной литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др. Оборонный комплекс - научно-техническому прогрессу России. 2012. № 3. С. 69-77.

Рассмотрен подход, позволяющий осуществлять выбор параметров нового технического решения, принимаемого за основу при создании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек нанометрового диапазона с проектными нормами не более 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса.

Добавлено: 16 ноября 2012

Задача морфологической коррекции в литографической технологии для опто- и наноэлектроники

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. В кн.: Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции. Ульяновск: УлГУ, 2012. С. 54-55.

В работе приведено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции, как задача поиска экстремума функционала штрафа в литографической технологии для опто- и наноэлектроники. Рассмотрено также применение методов математической фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии.

Добавлено: 17 мая 2013

Функциональное моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др. МГОУ-XXI - Новые технологии. 2012. № 2. С. 9-16.

Рассмотрена IDF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом ультрафиолетовой иммерсионной литографии, являющаяся структурированным изображением производственной системы или среды.

Добавлено: 24 января 2013

Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования

Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др. Нелинейный мир. 2012. Т. 10. № 7. С. 454-459.

Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов. Реализация «обхода» проблем малых выборок обеспечивает увеличение объема исходных данных и повышает эффективность технического моделирования. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек диапазона порядка 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса.

Добавлено: 16 ноября 2012