?
Алгоритм выбора технологического решения для иммерсионной ультрафиолетовой литографии
С. 253–254.
Костомаров П. С.
В работе рассмотрены аспекты практического применения метода иммерсионной литографии при выборе технологического решения установки, удовлетворяющей производственным требованиям: проектные нормы, диаметры полупроводниковой пластины, скорость обработки.
В книге
М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013.
Икрянников В. О., Барыкин А. Н., Стандарты и качество 2019 № 6(984) С. 20–25
Применение технических регламентов и документов по стандартизации при описании объектов закупок является неотъемлемым элементом законодательства и актуальным направлением государственной политики в сфере государственных закупок, технического регулирования и стандартизации. ...
Добавлено: 27 ноября 2019 г.
Добавлено: 20 мая 2014 г.
Malkov Y., Ponomarenko Alexander, Krylov V. и др., Information Systems 2014 Vol. 45 No. DOI 10.1016/j.is.2013.10.006 P. 61–68
Добавлено: 24 января 2014 г.
Пономаренко А. А., Мальков Ю. А., Логвинов А. А. и др., Вестник Нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского 2012 № 5 С. 409–415
Рассматривается новый подход к решению задачи поиска ближайшего соседа в метрическом пространстве. Предлагается в качестве структуры данных использовать граф, обладающий навигационными свойствами тесного мира, а в качестве алгоритма поиска – алгоритм градиентного спуска. Проблема существования локальных минимумов решается за счет произведения серии независимых поисков. Приведены экспериментальные данные, подтверждающие логарифмическую сложность алгоритма поиска. ...
Добавлено: 4 октября 2013 г.
Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн.: Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции.: Ульяновск: УлГУ, 2012. С. 54–55.
В работе приведено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции, как задача поиска экстремума функционала штрафа в литографической технологии для опто- и наноэлектроники. Рассмотрено также применение методов математической фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии. ...
Добавлено: 17 мая 2013 г.
Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., В кн.: Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012).: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 394–400.
Рассмотрена IDEF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Показана стратегия диагностики и технического обслуживания, которая позволяет получить от эксплуатируемого оборудования максимальный эффект. Предложено техническое решение устройства формирования изображения на подложке. ...
Добавлено: 12 февраля 2013 г.
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 7: Проблемы надежности и качества.: М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 88–92.
В работе рассматриваются основные дефекты технологического процесса иммерсионной ультрафиолетовой литографии, предлагается упорядоченная система критериев оценки качества и интегральный обобщенный критерий качества, используемые при автоматизированном проектировании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии и позволяющие выполнить научно обоснованный, технически целесообразный, технологически и экономически выгодный выбор параметров нового технического решения. ...
Добавлено: 5 февраля 2013 г.
Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 1.: М.: МГТУ МИРЭА, 2012. С. 163–166.
Рассмотрено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции как задачу поиска экстремума функционала штрафа. Представлено практическое применение фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии (ИУФЛ).
Модель литографического процесса, однажды полученная на основании этих данных, позволяет проводить точную коррекцию любых дополнительных более сложных геометрий. ...
Добавлено: 27 января 2013 г.
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., МГОУ-XXI - Новые технологии 2012 № 2 С. 9–16
Рассмотрена IDF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом ультрафиолетовой иммерсионной литографии, являющаяся структурированным изображением производственной системы или среды. ...
Добавлено: 24 января 2013 г.
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., Нелинейный мир 2012 Т. 10 № 7 С. 454–459
Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов. Реализация «обхода» проблем малых выборок обеспечивает увеличение объема исходных данных и повышает эффективность технического моделирования. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек диапазона порядка 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...
Добавлено: 16 ноября 2012 г.
Критерий качества в автоматизированном проектировании устройств оборудования иммерсионной литографии
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., Оборонный комплекс - научно-техническому прогрессу России 2012 № 3 С. 69–77
Рассмотрен подход, позволяющий осуществлять выбор параметров нового технического решения, принимаемого за основу при создании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек нанометрового диапазона с проектными нормами не более 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...
Добавлено: 16 ноября 2012 г.