Особенности начальной стадии роста ниобийсодержащих наноструктур на поверхности Si(111)-7×7

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2016. Т. 3. С. 10–18.

Путилов А. В., Музыченко Д. А., Аладышкин А. Ю.

Экспериментально исследована начальная стадия процесса роста островковых наноструктур в ходе термического осаждения ниобия на реконструированную поверхность кремния Si(111)-7×7 в условиях сверхвысокого вакуума. Морфологические и электрофизические свойства ниобийсодержащих наноструктур были изучены с помощью низкотемпературной сканирующей туннельной микроскопии и спектроскопии. Было обнаружено, что при напылении ниобия на подложку при комнатной температуре на поверхности кремния формируются кластеры и наноостровки с характерным латеральным размером до 10 нм с металлическим типом туннельной проводимости при низких температурах. При напылении ниобия на нагретую подложку формируются квазиодномерные (1D) и квазидвумерные (2D) структуры (с типичными латеральными размерами до 200 нм) и трехмерные пирамидальные островки с полупроводниковым типом туннельной проводимости при низких температурах.

Ключевые слова: сканирующая туннельная микроскопия, ниобий