• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Статья

Химическое распыление углеродных и графитовых материалов в потоках кислородной плазмы

Черник В. Н., Акишин А. И., Новиков Л. С., Бондаренко Г. Г., Гайдар А. И., Виргильев Ю. С.

Исследовано химическое распыление различных типов углеродных и графитовых материалов в потоках кислородной плазмы с энергией частиц менее 100 эВ. Для нелегированных материалов зависимость коэффициента химического распыления от структуры выражено слабо. Коэффициент распыления легированных бором материалов снижается по мере степени его легирования. С помощью растрового электронного микроскопа исследован рельеф поверхности ряда углеродных материалов.