• A
  • A
  • A
  • АБВ
  • АБВ
  • АБВ
  • A
  • A
  • A
  • A
  • A
Обычная версия сайта
  • RU
  • EN
  • Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
  • Публикации ВШЭ
  • Глава
  • Планарная технология с использованием иммерсионной ультрафиолетовой литографии
  • RU
  • EN
Расширенный поиск
Высшая школа экономики
Национальный исследовательский университет
Приоритетные направления
  • бизнес-информатика
  • государственное и муниципальное управление
  • гуманитарные науки
  • инженерные науки
  • компьютерно-математическое
  • математика
  • менеджмент
  • право
  • социология
  • экономика
по году
  • 2027
  • 2026
  • 2025
  • 2024
  • 2023
  • 2022
  • 2021
  • 2020
  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2013
  • 2012
  • 2011
  • 2010
  • 2009
  • 2008
  • 2007
  • 2006
  • 2005
  • 2004
  • 2003
  • 2002
  • 2001
  • 2000
  • 1999
  • 1998
  • 1997
  • 1996
  • 1995
  • 1994
  • 1993
  • 1992
  • 1991
  • 1990
  • 1989
  • 1988
  • 1987
  • 1986
  • 1985
  • 1984
  • 1983
  • 1982
  • 1981
  • 1980
  • 1979
  • 1978
  • 1977
  • 1976
  • 1975
  • 1974
  • 1973
  • 1972
  • 1971
  • 1970
  • 1969
  • 1968
  • 1967
  • 1966
  • 1965
  • 1964
  • 1963
  • 1958
  • еще
Тематика
Новости
19 мая 2026 г.
Физики НИУ ВШЭ выяснили, что происходит внутри устойчивого вихря
В атмосфере и в океане часто наблюдаются крупные вихри с характерными спиральными рукавами. Физики из НИУ ВШЭ объяснили, как они формируются и почему сохраняют свою структуру. Оказалось, что скорости в точках, расположенных вдоль одной дуги вихря, остаются связанными даже на больших расстояниях. При этом в направлении от центра вихря эта связь быстро ослабевает. Такие различия помогают объяснить образование рукавов и могут улучшить модели атмосферных и океанических течений. Результаты опубликованы в Physical Review Fluids.
18 мая 2026 г.
В Вышке прошла XXX юбилейная научно-техническая конференция имени Е.В. Арменского
Организатором научного события выступает Московский институт электроники и математики им. А.Н. Тихонова ВШЭ. В этом году главный инженерный студенческий форум проходил 30-й раз и собрал рекордное число участников. Студенты, аспиранты и молодые специалисты из 50 вузов и организаций России представили научно-исследовательские доклады в ИТ-области. Отдельная секция была посвящена научно-исследовательским работам школьников.
15 мая 2026 г.
В НИУ ВШЭ разрабатывают нейросеть для сферы науки и инноваций
Исследователи НИУ ВШЭ учат большие языковые модели понимать русскоязычную научную терминологию, увеличивая при этом их энергоэффективность. Адаптированная модель работает в 2,7 раза быстрее и требует на 73% меньше памяти, чем исходная открытая модель, что позволяет запускать ее на более доступном оборудовании. Программа прошла государственную регистрацию.

 

Нашли опечатку?
Выделите её, нажмите Ctrl+Enter и отправьте нам уведомление. Спасибо за участие!

Публикации
  • Книги
  • Статьи
  • Главы в книгах
  • Препринты
  • Верификация публикаций
  • Расширенный поиск
  • Правила использования материалов
  • Наука в ВШЭ

?

Планарная технология с использованием иммерсионной ультрафиолетовой литографии

С. 297–298.
Костомаров П. С.

В работе рассмотрены основные методы повышения разрешающей способности процесса ультрафиолетовой литографии, предложена их сравнительная характеристика и проведён анализ эффективности использования в современных литографических установках. Рассмотрены физические аспекты применения метода иммерсионной литографии и предложен способ его технического воплощения. Предложено также техническое решение устройства формирования изображения на подложке отвечающее современным тенденциям снижения размеров шаблона в ультрафиолетовой литографии.

Язык: русский
Полный текст
Ключевые слова: разрешающая способностьустройство формирования изображения на подложкеиммерсионная литографияметоды повышения разрешающей способностипроекционные системы

В книге

Научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов МИЭМ, посвященная 50-летию МИЭМ
М.: Московский государственный институт электроники и математики, 2012.
Похожие публикации
Основы компьютерной графики
Королев Д. А., СПб.: Лань, 2026.
Учебное пособие состоит из четырех разделов, где рассматриваются физические основы, аналого-цифровое преобразование графики, сжатие графики и видео, устройства ввода и вывода графической информации; книга повторяет структуру и содержание теоретической части курса. Основной подход —- систематизация школьных знаний и формирование целостной картины работы с графикой и видео «изнутри». На различных примерах показываются элегантные инженерные решения в ...
Добавлено: 7 февраля 2026 г.
О повышении разрешающей способности трехэлементных зондов акустического каротажа
Ахметсафина Р. З., Ахметсафин Р. Д., Геофизика 2014 № 6 С. 58–61
Для повышения разрешающей способности трехэлементных зондов акустического каротажа при базе зонда, крат- но превышающей шаг каротажа по глубине, предлагается метод, основанный на решении задачи, обратной скользящему арифметическому среднему. Для обновления оценок интервального времени формируется система линейных уравнений и предлагается ее регуляризация. Эффективность метода можно оценить сопоставлением зарегистрированных и синтетиче- ских кривых первоприбытия. ...
Добавлено: 19 марта 2015 г.
Информационная технология моделирования процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии
Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., В кн.: Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012).: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 394–400.
Рассмотрена IDEF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Показана стратегия диагностики и технического обслуживания, которая позволяет получить от эксплуатируемого оборудования максимальный эффект. Предложено техническое решение устройства формирования изображения на подложке. ...
Добавлено: 12 февраля 2013 г.
Формирование изображения на подложке в иммерсионной литографии
Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. и др., В кн.: INTERMATIC - 2010. Материалы Международной научно-технической конференции «Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения», 23-27 ноября 2010 г., МоскваЧ. 1.: М.: Энергоатомиздат, 2010. С. 306–307.
В работе предлагаются методы повышения разрешающей способности, числовой аппретуры и глубины фокуса литографического технологического оборудования на основе использования иммерсионных жидкостей и эффекта обращения волнового фронта. Авторами также предлагается техническое решение позволяющее уменьшить минимальный характеристический размер элемента на подложке до нескольких десятков нанометров без перехода к экстремальным ультрафиолетовым и мягким рентгеновским источникам излучения. ...
Добавлено: 8 февраля 2013 г.
Оптимизация процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии в условиях малых выборок
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 3: Материалы и технологии.: М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 112–116.
Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок, обеспечивающая возможность технического моделирования, без использования реальных технологических процессов и дорогостоящего иммерсионного литографического оборудования. ...
Добавлено: 5 февраля 2013 г.
Функциональное моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н. и др., МГОУ-XXI - Новые технологии 2012 № 2 С. 9–16
Рассмотрена IDF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом ультрафиолетовой иммерсионной литографии, являющаяся структурированным изображением производственной системы или среды. ...
Добавлено: 24 января 2013 г.
Технология литографических процессов
Лапшинов Б. А., М.: Московский государственный институт электроники и математики, 2011.
Изложены принципы и методы выполнения всех операций, составляющих единый технологический процесс фотолитографии. Дан анализ ограничений разрешающей способности традиционной фотолитографии и показаны пути их преодоления. Приведены сведения о развитии литографических процессов и основные принципы их реализации. Для студентов 3 и 4 курсов обучающихся по специальности 210100 «Электронное машиностроение». ...
Добавлено: 23 апреля 2012 г.
  • О ВЫШКЕ
  • Цифры и факты
  • Руководство и структура
  • Устойчивое развитие в НИУ ВШЭ
  • Преподаватели и сотрудники
  • Корпуса и общежития
  • Закупки
  • Обращения граждан в НИУ ВШЭ
  • Фонд целевого капитала
  • Противодействие коррупции
  • Сведения о доходах, расходах, об имуществе и обязательствах имущественного характера
  • Сведения об образовательной организации
  • Людям с ограниченными возможностями здоровья
  • Единая платежная страница
  • Работа в Вышке
  • ОБРАЗОВАНИЕ
  • Лицей
  • Довузовская подготовка
  • Олимпиады
  • Прием в бакалавриат
  • Вышка+
  • Прием в магистратуру
  • Аспирантура
  • Дополнительное образование
  • Центр развития карьеры
  • Бизнес-инкубатор ВШЭ
  • Образовательные партнерства
  • Обратная связь и взаимодействие с получателями услуг
  • НАУКА
  • Научные подразделения
  • Исследовательские проекты
  • Мониторинги
  • Диссертационные советы
  • Защиты диссертаций
  • Академическое развитие
  • Конкурсы и гранты
  • Внешние научно-информационные ресурсы
  • РЕСУРСЫ
  • Библиотека
  • Издательский дом ВШЭ
  • Книжный магазин «БукВышка»
  • Типография
  • Медиацентр
  • Журналы ВШЭ
  • Публикации
  • http://www.minobrnauki.gov.ru/
    Министерство науки и высшего образования РФ
  • https://edu.gov.ru/
    Министерство просвещения РФ
  • http://www.edu.ru
    Федеральный портал «Российское образование»
  • https://elearning.hse.ru/mooc
    Массовые открытые онлайн-курсы
  • НИУ ВШЭ1993–2026
  • Адреса и контакты
  • Условия использования материалов
  • Политика конфиденциальности
  • Правила применения рекомендательных технологий в НИУ ВШЭ
  • Карта сайта
Редактору