?
Технологические принципы формирования пленочных элементов туннельного НЭМС преобразователя
В настоящей работе рассмотрены принципы создания электродных покрытий основных элементов наноэлектромеханического преобразователя с диафрагменным упругим чувствительным элементом (УЧЭ) с использованием эффекта электронного туннелирования при использовании процессов КМОП технологии.
Разработаны специальные технологические процессы, предназначенные для формирования электродов туннельного преобразователя на основе тугоплавкого материала – силицида платины, обладающего по сравнению с прочими материалами рядом преимуществ, таких как химическая стойкость, необходимые туннельные характеристики, а также удобство литографии. Разработанный технологический маршрут изготовления интегрального туннельного наноэлектромеханического преобразователя полностью совместим со стандартным технологическим маршрутом КМОП, что позволяет делать возможной однокристальную интеграцию преобразователя с управляющими электронными схемами.