Построение литографических отображений в двухмерном пространстве

М. Ю. Корпачев

?

Построение литографических отображений в двухмерном пространстве

С. 263–264.

Корпачев М. Ю.

В работе рассмотрены вопросы решения задачи представления коллекции изображений на плоскости в ультрафиолетовой литографической технологии. Рассмотрены также технологические методы коррекции оптического эффекта близости, искусственного фазового сдвига, иммерсирования, а также двойного экспонирования и паттернирования.

Язык: русский

Полный текст

Ключевые слова: коррекция оптического эффекта близости методы снижения размерности ультрафиолетовая литографическая технология искусственный фазовый сдвиг иммерсирование, двойное экспонирование и паттернирование

В книге

Научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов МИЭМ НИУ ВШЭ. Тезисы докладов

М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013.

Статистические методы снижения размерности и кластеризации в экономике: учебное пособие для вузов

Т.А. Дуброва, М.А.Есенин, М.: Издательско-торговая корпорация «Дашков и Ко», 2024.

В учебном пособии представлены теоретические основы статистических методов снижения размерности и кластеризации, востребованных в экономических исследованиях. Рассмотрены метод главных компонент, методы кластерного анализа (иерархические агломеративные процедуры и различные модификации метода k-средних), позволяющие проводить многомерный статистический анализ сложных наборов данных. Приведены примеры практического применения обсуждаемых методов в экономических задачах, большое внимание уделено интерпретации результатов. Каждую главу завершают ...

Добавлено: 25 октября 2024 г.

Коррекция эффектов оптической близости в литографии

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн.: Инновационные информационные технологии: Материалы международной научно-практической конференцииТ. 3.: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013. С. 436–440.

Рассмотрен один из методов преодоления дифракционного предела в литографии – коррекция эффектов оптической близости. Показаны методы практической реализации данной коррекции с помощью специальных компенсирующих элементов или «выточек». ...

Добавлено: 17 мая 2013 г.

Задача снижения размерности для опто- и наноэлектроники в литографической технологии

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн.: Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции.: Ульяновск: УлГУ, 2012. С. 52–53.

Приведено решение задачи представления коллекции изображений на плоскости в ультрафиолетовой литографической технологии. Предложены методы снижения размерности объектов на основе линейных методов использующих дискретный вариант разложения Краунена – Лоэва. Предложены также нелинейные методы снижения размерности в ультрафиолетовой литографической технологии на основе отображения множества векторов многомерного пространства в пространство малой размерности. Рассмотрено применение коррекции оптического эффекта близости ...

Добавлено: 17 мая 2013 г.

Методы снижения характеристического размера при автоматизированном проектировании элементов СБИС

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., В кн.: Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012).: М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 284–287.

Рассмотрены основные вопросы снижения размерности изображения топологии на фотошаблоне при отображении коллекции изображений в двухмерное пространство. Предложены методы снижения минимального характеристического размера элементов СБИС с использованием коррекции оптического эффекта близости. ...

Добавлено: 12 февраля 2013 г.

Пути снижения размерности изображения топологии в УФ – литографическом процессе производства СБИС

Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. и др., В кн.: Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., МоскваЧ. 3: Материалы и технологии.: М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 66–73.

Рассмотрены основные методы снижения минимального характеристического размера в литографической технологии, включающие в себя коррекцию оптического эффекта близости, метод искусственного фазового сдвига, иммерсирования, двойного экспонирования и паттернирования. Рассмотрены также методы отображения коллекции изображений в двухмерное пространство. ...

Добавлено: 5 февраля 2013 г.