Глава
ФГБОУ ВПО "Московский государственный институт электроники и математики"
Краткая историческая справка становления и развития трех основных направлений подготовки инженеров-электронщиков в МИЭМ: микроэлектроника и твердотельная электроника, электронное машиностроение, конструирование и производство радиоаппаратуры.
В книге
МИЭМ, сохраняя научно-образовательные традиции и активно используя междисциплинарные связи, ориентирован на развитие магистральных направлений науки и техники с одновременной подготовкой квалифицированных кадров для этих направлений. В первую очередь это нанотехнологии в многообразии их развития, а также сопутствующие им традиционные отрасли электроники, материаловедения, аналитической техники и машиностроения.
В монографии рассмотрены конструктивные решения как технологических устройств на основе пьезоприводов и магнитострикционных элементов, так и самих приводов, предназначенных в том числе для работы в условиях вакуума. Предложенные технические решения удовлетворяют критериям качества по привносимой дефектности, кинематическим и динамическим параметрам работоспособности. Разработанные модели образования привносимой дефектности в условиях вибрации позволяют реализовать конструкции прецизионных приводов, дефектность от которых наименьшим образом влияет на технологическую среду.
Монография предназначена для инженерно-технических и научных работников, занимающихся микро- и наноинженерией в электронном машиностроении и может быть рекомендована аспирантам вузов и студентам, обучающимся по специальности 210107 – «Электронное машиностроение» и направлению подготовки бакалавров и магистров 210100 – «Электроника и наноэлектроника» профиля «Микро- и наноинженерия в электронике».
Рассмотрены вопросы разработки принципиально нового подхода к проектированию вакуумной коммутационной аппаратуры для работы в условиях малых перепадов низких давлений. Одним из возможных решений является использование в качестве приводов формирования перемещений и усилий упруго-деформируемых пневматических герметичных элементов, действующих на основе принципа управляемой упругой деформации. В монографии сформулированы основные принципы конструирования вакуумной запорной арматуры, наиболее полно удовлетворяющей требованиям высоковакуумного многомодульного оборудования, выполнен комплекс теоретических и экспериментальных исследований, сформулированы требования по широкой реализации направления в технике создания облегченных конструкций бескорпусных вакуумных клапанов и затворов и рассмотрены перспективы дальнейшего развития работ в этом направлении, а так же при создании большинства других устройств вакуумной механики.
Монография предназначена для инженерно-технических и научных работников, занимающихся микро- и наноинженерией в электронном машиностроении и может быть рекомендована аспирантам вузов и студентам, обучающимся по специальности 210107 – «Электронное машиностроение» и направлению подготовки бакалавров и магистров 210100 – «Электроника и наноэлектроника» профиля «Микро- и наноинженерия в электронике».
Рассматриваются проблемы внутриаппаратурной электромагнитной совместимости радиоэлектронной и электронно-вычисоительной аппаратуры, которые определяют современные подходы к конструированию технических средств.
Изложены принципы и методы выполнения всех операций, составляющих единый технологический процесс фотолитографии. Дан анализ ограничений разрешающей способности традиционной фотолитографии и показаны пути их преодоления. Приведены сведения о развитии литографических процессов и основные принципы их реализации.
Для студентов 3 и 4 курсов обучающихся по специальности 210100 «Электронное машиностроение».
Предложены функциональные, технологические, структурные, экономические, экологические и локальные критерии, на основании которых строится обобщённый критерий качества технологического процесса ультрафиолетовой литографии, а также оборудования, непосредственно участвующего в его осуществлении. Предложено концептуальное решение устройства осуществляющего формирование нанодорожек на подложке.
Предложены функциональные, технологические, структурные, экономические, экологические и локальные критерии, на основании которых строится обобщённый критерий качества технологического процесса ультрафиолетовой литографии, а также оборудования, непосредственно участвующего в его осуществлении. Для реализации технологического процесса ультрафиолетовой литографии в экстремальном ультрафиолетовом и мягком рентгеновском диапазонах предложено техническое решение, удовлетворяющее предложенным критериям качества и имеющее высокую экономическую эффективность.
Рассмотрены вопросы виброзащиты объектов в контрольно-диагностическом и технологическом оборудовании. Предложена четырехуровневая система защиты объектов микроэлектроники от вибраций. Для каждого из уровней системы представлены технологические решения виброзащитных устройств.