• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Статья

Электроразрядные процессы при облучении стекол К-208 и CMG электронами с энергией в диапазоне от 10 до 40 кэВ

Новиков Л. С., Хасаншин Р., Гаценко Л., Волкова Я.
Представлены результаты сопоставительного анализа характеристик электростатических разрядов, возникающих на поверхности стекол К-208 и CMG при облучении их в вакууме электронами с энергиями в диапазоне 10-40 кэВ при плотности потока от 1010 до 2,5×1011 см-2с-1. Для обоих стекол наблюдались разряды, сопровождающиеся выбросом плазмы в окружающее пространство и образованием на поверхности микровыступов и разрядных каналов, однако условия развития разрядов и размеры образующихся на поверхности микроструктур для стекол К-208 и CMG, облученных в одинаковых условиях, значительно отличаются.