?
Deposition of optically transparent copper films on dielectric substrates using the plasma focus installation
P. 971–974.
В книге
Tomsk: IEEE, 2020.
Pimenov V. N., Borovitskaya I. V., Bondarenko G.G. и др., Inorganic Materials: Applied Research 2025 Vol. 16 No. 6 P. 1863–1873
Добавлено: 21 ноября 2025 г.
Маневич В. Е., Российский химико- техногогический университет им. Менделеева, 2012.
В книге представлена информация по важнейшим эксплуатационным свойствам стекол, технологии их производства, перерабготки в изделия, методам разбраковки и контроля качкства. Авторы книги являются ведущими специалистами важнейших направлений науки о стекле, промышленной технологии производства материалов и изделий из стекла. ...
Добавлено: 2 октября 2022 г.
Damodaran K., Delaye J. -., Калиничев А. Г. и др., Acta Materialia 2022 Vol. 225 Article 117478
The role of Al in aluminosilicate glasses remains somewhat a mystery: at low concentrations, it increases the resistance to hydrolysis of the glass, whereas at high concentrations an opposite effect is observed. To understand the origin of the phenomenon on a fundamental atomistic scale, we performed 577 MD simulations and applied potential mean force (PMF) ...
Добавлено: 10 декабря 2021 г.
Gribkov V. A., Borovitskaya I. V., Demin A. S. и др., Instruments and Experimental Techniques 2020 Vol. 63 No. 1 P. 68–76
Добавлено: 17 февраля 2020 г.
Borovitskaya I. V., Gribkov V. A., Grigorovich K. V. и др., Russian Metallurgy (Metally) 2018 No. 9 P. 826–834
Добавлено: 23 января 2019 г.
Borovitskaya I. V., Nikulin V. Y., Bondarenko G.G. и др., Russian Metallurgy (Metally) 2018 No. 3 P. 266–275
Добавлено: 23 июня 2018 г.
Borovitskaya I. V., Pimenov V. N., Gribkov V. A. и др., Russian Metallurgy (Metally) 2017 No. 11 P. 928–935
Добавлено: 23 января 2018 г.
Ерискин А. А., Бондаренко Г. Г., Колокольцев В. Н. и др., В кн.: Тезисы докладов XLV международной Тулиновской конференции по физике взаимодействия заряженных частиц с кристаллами.: Университетская книга, 2015. С. 166–166.
Методом обратного резерфордовского рассеяния ионов He+ энергией 2 МэВ изучены профили распределения C, Cu и W в пленках, напыленных на установке ПФ-4, ФИАН. Пленки напылялись на стеклянные подложки в газах Ar, D2. Установлено, что профили распределения элементов существенно зависят от кинетической энергии частиц и их размеров. При скоростях частиц ~100 км/с частицы проникают на глубину ...
Добавлено: 5 июня 2015 г.