?
Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде
Известия высших учебных заведений. Физика. 2015. Т. 58. № 9. С. 99-104.
Установлены закономерности процесса распыления катода с тонкой диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. Показано, что плотность потока распыленных с катода атомов максимальна на его участках с наименьшей толщиной пленки вследствие существования фокусировки на них ионного потока, которая обусловлена нарушением однородности электрического поля вблизи поверхности катода. В результате происходит увеличение неравномерности толщины пленки с течением времени, приводящее к образованию в ней пор.
Special features of sputtering of the cathode with a thin dielectric film of variable thickness in a glow discharge are studied. It is shown that the flux density of atoms sputtered from the cathode is maximal on its sections with minimal film thickness due to focusing of ion flux caused by the violation of the ...
Добавлено: 21 января 2016 г.
Бондаренко Г. Г., Кристя В. И., Савичкин Д. О., Известия высших учебных заведений. Физика 2017 Т. 60 № 2 С. 129-134
Построена теоретическая модель катодного слоя нормального тлеющего разряда при наличии на поверхности катода тонкой диэлектрической пленки. В ней, кроме ионно-электронной эмиссии, учитывается также полевая эмиссия электронов из металлической подложки катода в пленку под действием возникающего в диэлектрике сильного электрического поля. Установлено, что влияние полевой электронной эмиссии на характеристики тлеющего разряда определяется эмиссионной эффективностью пленки, равной ...
Добавлено: 6 апреля 2017 г.
Bondarenko G.G., Korzhavyi A. P., Chistyakov G. A., Russian Metallurgy (Metally) 2005 No. 3 P. 269-272
The behaviour of sandwich structures of cold cathodes has been studied in a glow discharge. The differences in the behaviour of the cold-cathode composite structures under the action of a glow discharge in a helium-neon mixture are discussed. ...
Добавлено: 22 ноября 2013 г.
Bondarenko G.G., Kristya V. I., Vacuum 1999 Vol. 53 P. 25-27
A one-dimensional model kinetic equation for the energy distribution function of heavy ions in the cathode sheath of gas mixture glow dischargees is siggested. ...
Добавлено: 15 ноября 2013 г.
Бондаренко Г. Г., Кристя В. И., Journal of Physics: Conference Series 2008 Vol. 100 No. 062009 P. 1-4
Разработана математическая модель транспорта ионов и распыленных атомов в окрестности мишени, имеющей периодический поверхностный рельеф, при ее облучении в тлеющем газовом разряде. Исходя из предположения малости амплитуды рельефа, пертурбационным методом получены аналитические выражения для их потоков и уравнение, описывающее эволюцию амплитуды рельефа во времени. Показано, что процесс распыления доминирует над обратным перенапылением материала в верхних ...
Добавлено: 4 января 2013 г.
Bondarenko G.G., Kristya V. I., IOP Conference Series: Materials Science and Engineering (MSE) 2017 Vol. 168 No. 012008 P. 1-5
Добавлено: 17 февраля 2017 г.
Бондаренко Г.Г., Кристя В. И., Мью Т. Х. и др., В кн. : Труды XXXI Международной конференции «Радиационная физика твердого тела» (Севастополь, 5 - 10 июля 2021 г.). : ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2021. С. 159-164.
Добавлено: 22 июля 2021 г.
Bondarenko G.G., Kristya V. I., Savichkin D. O. и др., Приборы и методы измерений 2018 Vol. 9 No. 3 P. 227-233
Добавлено: 22 сентября 2018 г.
Модель термополевой электронной эмиссии из катода с тонкой диэлектрической пленкой в тлеющем разряде
Бондаренко Г. Г., Кристя В. И., Мьо Т. Х. и др., В кн. : Труды XXV Международной конференции «Взаимодействие ионов с поверхностью" (ВИП-2021). Т. 3: Взаимодействие плазмы с поверхностью - физика и технология.: М. : [б.и.], 2021. С. 86-89.
Добавлено: 21 сентября 2021 г.
Разработан инжекционный метод исследования диэлектрических пленок МДП-структур при стрессовых и измерительных режимах в условиях сильнополевой инжекции электронов, учитывающий процессы заряда емкости структуры и захвата заряда в подзатворном диэлектрике МДП‑структур в инжекционном режиме. Показано, что при высоких плотностях инжекционного тока контроль характеристик накапливаемого в подзатворном диэлектрике заряда разработанным методом необходимо проводить по изменению напряжения на МДП‑структуре ...
Добавлено: 8 октября 2017 г.
Бондаренко Г. Г., Фишер М. Р., Мьо Т. Х. и др., Известия высших учебных заведений. Физика 2019 Т. 62 № 1 С. 72-78
Построена модель термополевой электронной эмиссии из металлического катода с тонкой поверхностной
диэлектрической пленкой при его температуре 200–400 К. Получено выражение для эмиссионной эффективности пленки в газовом разряде, равной доле эмиттированных в нее из металлической подложки электронов, выходящих в разрядный объем и увеличивающих эффективный коэффициент ионно-электронной эмиссии катода. Показано, что термополевой механизм эмиссии может оказывать заметное влияние ...
Добавлено: 23 февраля 2019 г.
Добавлено: 5 июня 2019 г.
Добавлено: 10 января 2020 г.
Бондаренко Г.Г., Бонк О. Г., Кристя В. И. и др., Известия РАН. Серия физическая 2000 Т. 64 № 4 С. 752-755
Рассмотрена задача о диффузионном переносе распыленных атомов в цилиндрической камере с полым катодом в условиях тлеющего разряда. Получено выражение, описывающее распределение обратного потока распыленных атомов на катод вдоль его поверхности. Показано, что в результате переосаждения распыленных атомов может происходить стягивание разряда в область катода, где в начальный момент времени плотность тока была наибольшей. ...
Добавлено: 29 ноября 2013 г.
Bondarenko G.G., Kristya V. I., Myo T. H. и др., Journal of Surface Investigation 2022 Vol. 16 No. 4 P. 581-585
Добавлено: 3 августа 2022 г.
Проведено исследование процессов изменения зарядового состояния МДП-структур с многослойным подзатворным диэлектриком на основе термической пленки SiO2, легированной фосфором, при воздействии сильнополевой инжекцией электронов. Установлено, что отрицательный заряд, накапливающийся в тонкой плёнке фосфорно-силикатного стекла (ФСС) в МДП-структурах с двухслойным подзатворным диэлектриком SiO2-ФСС в процессе сильнополевой туннельной инжекции электронов, может использоваться для корректировки пороговых напряжений, повышения зарядовой ...
Добавлено: 19 ноября 2015 г.
Andreev D. V., Бондаренко Г. Г., Stolyarov A. A., Inorganic Materials: Applied Research 2016 Vol. 7 No. 2 P. 187-191
Добавлено: 28 мая 2016 г.
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Столяров А. А., Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования 2016 № 4 С. 94-99
Исследовано изменение зарядового состояния МДП-структур с двухслойным подзатворным диэлектриком диоксид кремния–фосфорно-силикатное стекло при их модификации в процессе электронного облучения и инжекции электронов в сильных электрических полях. Тонкая пленка стекла образовывалась в результате легирования фосфором термической пленки SiO2, сформированной на поверхности кремниевой пластины. Установлено, что отрицательный заряд, накаплива
ющийся в тонкой пленке фосфорно-силикатного стекла в процессе туннельной ...
Добавлено: 1 августа 2016 г.
Andreev D. V., Bondarenko G.G., Andreev V. V. и др., Journal of Physics: Conference Series 2021 Vol. 1740 Article 012034
Добавлено: 26 января 2021 г.
Проведена модификация диэлектрических пленок МДП-структур и границ раздела кремний диэлектрик методом инжекционно-термической обработки (ИТО), заключающейся в
сильнополевой инжекции заданной величины заряда в подзатворный диэлектрик с последующим
отжигом структуры. Исследовано влияние режимов ИТО на модификацию МДП-структур.
Показано, что проведение ИТО позволяет снижать дефектность диэлектрических пленок,
повышая надежность МДП-приборов. Установлено, что процессы модификации МДП-структур,
наблюдающиеся при ИТО, во многом идентичны процессам, происходящим при ...
Добавлено: 10 декабря 2014 г.
Андреев Д. В., Бондаренко Г. Г., Андреев В. В. и др., Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования 2020 № 3 С. 53-57
На основе полученных экспериментальных данных разработана модель процессов изменения зарядового состояния МДП-структур при одновременном воздействии сильнополевой туннельной инжекции электронов и радиационных излучений. Модель учитывает взаимодействие инжектированных электронов с зарядами, возникающими в диэлектрической пленке вследствие радиационной и
сильнополевой ионизации. Показано, что при взаимодействии инжектируемых электронов с дырками, захваченными в пленке SiO2, часть дырок может аннигилировать, приводя к ...
Добавлено: 17 февраля 2020 г.
Процессы радиационной ионизации в диэлектрических пленках МДП-структур в сильных электрических полях
Проведено исследование воздействия a-частиц и протонов на МДП-структуры, находящихся в условиях сильнополевой туннельной по Фаулеру-Нордгейму инжекцией электронов в диэлектрик. Инжекция электронов осуществлялась в режиме протекания постоянного тока через подзатворный диэлектрик при положительной полярности напряжения на затворе. Установлено, что ионизационный ток, возникающий в процессе облучения МДП-структуры при поддержании режима протекания постоянного тока, может существенно уменьшать электрическое ...
Добавлено: 23 декабря 2015 г.
Добавлено: 25 июня 2020 г.
Рассчитан диффузионный перенос вещества, распыляемого с поверхности мишени в асимметричном разряде переменного тока. Получены выражения для плотностей потоков распыленного вещества, осаждающегося на мишень и подложку. Установлено, что при снижении давления газа происходит уменьшение амплитуды нестационарной составляющей потоков распыленных атомов. ...
Добавлено: 25 ноября 2013 г.