• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Статья

Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде

Бондаренко Г. Г., Кристя В. И., Тун Й. Н.

Установлены закономерности процесса распыления катода с тонкой диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. Показано, что плотность потока распыленных с катода атомов максимальна на его участках с наименьшей толщиной пленки вследствие существования фокусировки на них ионного потока, которая обусловлена нарушением однородности электрического поля вблизи поверхности катода. В результате происходит увеличение неравномерности толщины пленки с течением времени, приводящее к образованию в ней пор.