?
Повышение качества светового потока в литографии
С. 200–203.
Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., Лучников П. А.
Показано использование эффекта обращения волнового фронта для обеспечения высоконаправленного светового потока и создания компенсации его искажения по всей трассе прохождения пучка лучей. Рассмотрены основные направления применения данного эффекта, подходящие для использования в устройствах, направленных на получения элементов с проектными нормами не более 32 нм. Представлено устройство для выполнения литографических операций в основу которого положена задача повышения качества светового потока используемого для технологической обработки, за счет большей равномерности.
Язык:
русский
В книге
Ч. 2. , М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2013.