?
Модель морфологической коррекции в литографической технологии
С. 163-166.
Ivashov E., Костомаров П. С.
Балан Н. Н., Vasin V. A., Ivashov E. et al., В кн. : Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. Материалы Международной научно-технической конференции «INTERMATIC – 2012», 3–7 декабря 2012 г., Москва. Ч. 7: Проблемы надежности и качества.: М. : МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2012. С. 88-92.
В работе рассматриваются основные дефекты технологического процесса иммерсионной ультрафиолетовой литографии, предлагается упорядоченная система критериев оценки качества и интегральный обобщенный критерий качества, используемые при автоматизированном проектировании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии и позволяющие выполнить научно обоснованный, технически целесообразный, технологически и экономически выгодный выбор параметров нового технического решения. ...
Added: February 5, 2013
Балан Н. Н., Vasin V. A., Ivashov E. et al., МГОУ-XXI - Новые технологии 2012 № 2 С. 9-16
Рассмотрена IDF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом ультрафиолетовой иммерсионной литографии, являющаяся структурированным изображением производственной системы или среды. ...
Added: January 24, 2013
Ivashov E., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С., В кн. : Опто-, наноэлектроника, наноматериалы и микросистемы: Труды XV международной конференции. : Ульяновск : УлГУ, 2012. С. 54-55.
В работе приведено решение задачи морфологической фильтрации одномерной функции, как задача поиска экстремума функционала штрафа в литографической технологии для опто- и наноэлектроники. Рассмотрено также применение методов математической фильтрации и сегментации в иммерсионной ультрафиолетовой литографии. ...
Added: May 17, 2013
Критерий качества в автоматизированном проектировании устройств оборудования иммерсионной литографии
Балан Н. Н., Васин В. А., Ivashov E. et al., Оборонный комплекс - научно-техническому прогрессу России 2012 № 3 С. 69-77
Рассмотрен подход, позволяющий осуществлять выбор параметров нового технического решения, принимаемого за основу при создании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек нанометрового диапазона с проектными нормами не более 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...
Added: November 16, 2012
Костомаров П. С., В кн. : Научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов МИЭМ НИУ ВШЭ. Тезисы докладов. : М. : МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013. С. 253-254.
В работе рассмотрены аспекты практического применения метода иммерсионной литографии при выборе технологического решения установки, удовлетворяющей производственным требованиям: проектные нормы, диаметры полупроводниковой пластины, скорость обработки. ...
Added: September 21, 2013
Ivashov E., Костомаров П. С., В кн. : Инновации на основе информационных и коммуникационных технологий: материалы международной научно-технической конференции (2012). : М. : МИЭМ НИУ ВШЭ, 2012. С. 394-400.
Рассмотрена IDEF0 функциональная модель применительно к процессу формирования топологии объектов методом иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Показана стратегия диагностики и технического обслуживания, которая позволяет получить от эксплуатируемого оборудования максимальный эффект. Предложено техническое решение устройства формирования изображения на подложке. ...
Added: February 12, 2013
Балан Н. Н., Vasin V. A., Ivashov E. et al., Нелинейный мир 2012 Т. 10 № 7 С. 454-459
Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов. Реализация «обхода» проблем малых выборок обеспечивает увеличение объема исходных данных и повышает эффективность технического моделирования. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек диапазона порядка 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса. ...
Added: November 16, 2012