Принятие технического решения из ряда недоминируемых альтернатив при разработке литографических процессов

М. Ю. Корпачев

АБВ
АБВ
АБВ

Обычная версия сайта

Приоритетные направления

по году

Тематика

Новости

21 октября 2026 г.

Ученые НИУ ВШЭ систематизировали методы защиты изображений

Исследователи МИЭМ ВШЭ проанализировали схемы полухрупких цифровых водяных знаков для изображений, опубликованные за последние десять лет. Такие водяные знаки сохраняются при обычном сжатии или изменении яркости, но выдают подделку, если в снимок добавили объект или заменили лицо. Авторы предложили классификацию этих схем и выделили главные нерешенные проблемы. Результаты опубликованы в журнале Computer Science Review.

20 октября 2026 г.

«Наши работы можно назвать исследованиями на переднем крае науки»

Международная лаборатория кластерной геометрии, действующая на факультете математики НИУ ВШЭ, занимается формированием новой научной дисциплины, соединяющей в себе знания из различных областей математики. Выполненные в ней работы вызывают большой интерес, в том числе у зарубежных коллег. Лаборатория изучает семейства кривых и разрабатывает методы, применяемые в исследованиях физического микромира. Новостная служба «Вышка.Главное» побеседовала с заведующим лабораторией профессором Сергеем Ландо.

20 октября 2026 г.

За гранью возможного: в Вышке прошел финал IX сезона «Научных боев»

В конце сентября в Центре культур НИУ ВШЭ прошел финал IX сезона «Научных боев» с заглавной темой «За гранью возможного». Исследователи представили четыре работы. На каждое выступление отводилось по десять минут, после чего участники отвечали на вопросы жюри и зрителей. Спикеры искали границы между человеком и искусственным интеллектом, цифровой платформой и ее пользователями, государством и социальной инфраструктурой, а также между тем, как общество определяет человека, и тем, как он определяет себя сам.

Нашли опечатку?
Выделите её, нажмите Ctrl+Enter и отправьте нам уведомление. Спасибо за участие!

Публикации

?

Принятие технического решения из ряда недоминируемых альтернатив при разработке литографических процессов

С. 265–265.

Корпачев М. Ю.

В работе рассмотрены аспекты создания и развития систем поддержки и принятия технических решений при разработке литографических процессов изготовления интегральных схем. Предложен алгоритм выбора технического решения в литографической технологии.

Язык: русский

Полный текст

Ключевые слова: литографические процессы Системы поддержки и принятия технических решений алгоритм выбора технического решения в литографической технологии

В книге

Научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых специалистов МИЭМ НИУ ВШЭ. Тезисы докладов

М.: МИЭМ НИУ ВШЭ, 2013.

Технология литографических процессов

Лапшинов Б. А., М.: Московский государственный институт электроники и математики, 2011.

Изложены принципы и методы выполнения всех операций, составляющих единый технологический процесс фотолитографии. Дан анализ ограничений разрешающей способности традиционной фотолитографии и показаны пути их преодоления. Приведены сведения о развитии литографических процессов и основные принципы их реализации. Для студентов 3 и 4 курсов обучающихся по специальности 210100 «Электронное машиностроение». ...

Добавлено: 23 апреля 2012 г.