Повышение качества светового потока в литографии

Е. Н. Ивашов; П. С. Костомаров; П. А. Лучников

АБВ
АБВ
АБВ

Обычная версия сайта

Приоритетные направления

по году

Тематика

Новости

23 октября 2026 г.

В НИУ ВШЭ впервые прошла конференция на стыке стохастики, ИИ и финансовой математики

В середине октября в Высшей школе экономики состоялась первая научная конференция «Стохастика, искусственный интеллект и финансовая математика» (SAIMF 26). Исследователи Вышки, ведущие математики и специалисты финансового сектора обсудили фундаментальные математические задачи, современные методы искусственного интеллекта и их применение в финансах.

21 октября 2026 г.

Ученые НИУ ВШЭ систематизировали методы защиты изображений

Исследователи МИЭМ ВШЭ проанализировали схемы полухрупких цифровых водяных знаков для изображений, опубликованные за последние десять лет. Такие водяные знаки сохраняются при обычном сжатии или изменении яркости, но выдают подделку, если в снимок добавили объект или заменили лицо. Авторы предложили классификацию этих схем и выделили главные нерешенные проблемы. Результаты опубликованы в журнале Computer Science Review.

20 октября 2026 г.

«Наши работы можно назвать исследованиями на переднем крае науки»

Международная лаборатория кластерной геометрии, действующая на факультете математики НИУ ВШЭ, занимается формированием новой научной дисциплины, соединяющей в себе знания из различных областей математики. Выполненные в ней работы вызывают большой интерес, в том числе у зарубежных коллег. Лаборатория изучает семейства кривых и разрабатывает методы, применяемые в исследованиях физического микромира. Новостная служба «Вышка.Главное» побеседовала с заведующим лабораторией профессором Сергеем Ландо.

Нашли опечатку?
Выделите её, нажмите Ctrl+Enter и отправьте нам уведомление. Спасибо за участие!

Публикации

?

Повышение качества светового потока в литографии

С. 200–203.

Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., Лучников П. А.

Показано использование эффекта обращения волнового фронта для обеспечения высоконаправленного светового потока и создания компенсации его искажения по всей трассе прохождения пучка лучей. Рассмотрены основные направления применения данного эффекта, подходящие для использования в устройствах, направленных на получения элементов с проектными нормами не более 32 нм. Представлено устройство для выполнения литографических операций в основу которого положена задача повышения качества светового потока используемого для технологической обработки, за счет большей равномерности.

Язык: русский

Полный текст

Ключевые слова: обращение волнового фронта световой поток литографические операции фазосдвигающие элементы

В книге

INTERMATIC - 2013. Материалы Международной научно-технической конференции "Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения", 2–6 декабря 2013 г., Москва

Ч. 2. , М.: МГТУ МИРЭА – ИРЭ РАН, 2013.

Ультраметрики, потоки, деревья и узкие места

Вялый М. Н., Гурвич В. А., Математическое просвещение 2012 № 16 С. 75–88

Между конечными ультраметрическими пространствами, остовами минимального веса на графах, а также потоками и узкими местами в сетях имеются интересные связи, на которых авторы и сосредоточились в этой статье. ...

Добавлено: 18 октября 2014 г.