• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Статья

Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования

Нелинейный мир. 2012. Т. 10. № 7. С. 454-459.
Балан Н. Н., Васин В. А., Ивашов Е. Н., Костомаров П. С., Степанчиков С. В.

Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов. Реализация «обхода» проблем малых выборок обеспечивает увеличение объема исходных данных и повышает эффективность технического моделирования. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек диапазона порядка 32 нм, и минимальной технологической дефектностью процесса.