• A
  • A
  • A
  • АБB
  • АБB
  • АБB
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Книга

Моделирование распределения осаждаемых частиц на поверхности подложки при ионно-плазменном нанесении тонких пленок

Григорьев Ф. И., Чернов А. А.
Кратко изложены физические основы процессов ионно-плазменного нанесения тонких пленок в технологии микроэлектроники. Представлена математическая модель расчета отношения плотности потока распыляемого вещества от поверхности мишени к плотности потока осаждаемого вещества на поверхность подложки, а также распределения толщины тонкопленочного покрытия по поверхности подложки при проведении процессов ионно-плазменного нанесения. Представлено описание программного обеспечения для расчета геометрических параметров процесса ионно-плазменного нанесения. Описана методика выполнения лабораторной работы.
Моделирование распределения осаждаемых частиц на поверхности подложки при ионно-плазменном нанесении тонких пленок